Технология будущего: Стартап Lace Lithography уменьшит транзисторы в 10 раз

Норвежский стартап Lace Lithography, получивший поддержку Microsoft, объявил о привлечении 40 миллионов долларов инвестиций для создания революционной системы литографии. В отличие от традиционных методов, использующих свет, технология компании опирается на пучок атомов гелия. Это позволяет наносить рисунок на кремниевые пластины с невероятной точностью: ширина луча составляет всего 0,1 нм.

Для сравнения, современные установки EUV от лидера рынка ASML работают с длиной волны 13,5 нм. Главное преимущество атомов гелия заключается в отсутствии дифракционного предела, что позволяет уменьшить транзисторы в чипах в 10 раз по сравнению с существующими решениями. Компания, основанная физиком Бодилой Холст в 2023 году, планирует запустить пилотное производство к 2029 году. Проект BEUV обещает стать новым стандартом в полупроводниковой индустрии.