
Mikrosxemalar ishlab chiqarish sohasida ulkan qadam tashlandi. Microsoft tomonidan qo'llab-quvvatlanadigan Norvegiyaning «Lace Lithography» startapi geliý atomlariga asoslangan litografiya tizimini yaratish uchun 40 million dollar sarmoya jalb qildi. Bu texnologiya yorug'lik o'rniga atomlar dastasidan foydalanadi, bu esa kremniy plastinalarida o'ta aniq tasvirlarni chizish imkonini beradi.
Yangi tizimning nuri kengligi bor-yo'g'i 0,1 nm ni tashkil etadi (taqqoslash uchun, hozirgi EUV tizimlarida 13,5 nm). Bu tranzistorlar hajmini bir necha barobar kichraytirish va chiplar unumdorligini oshirish imkonini beradi. Kompaniya 2029-yilgacha sinov namunalarini ishlab chiqarishni rejalashtirmoqda. BEUV texnologiyasi yaqin kelajakda kompyuterlar va smartfonlar quvvatini tubdan o'zgartirishi kutilmoqda.
Keywords